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型號：
HTR-01 桌式4英寸快速退火爐

描述：HTR-01A快速退火爐系列采用紅外輻射加熱技術(shù)，可實(shí)現1-10片樣品同時(shí)進(jìn)行，可實(shí)現4寸晶圓片吋樣品快速升溫和降溫，同時(shí)搭配超高精度溫度控制系統，可達到的溫場(chǎng)均勻性，對材料的快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氮化(RTN)、快速熱氧化(RTO)及金屬合金化等研究和生產(chǎn)起到重要作用。

主要應用領(lǐng)域：

快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RT

  • 廠(chǎng)商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠(chǎng)家

  • 更新時(shí)間

    2024-08-27

  • 訪(fǎng)問(wèn)量

    601
詳細介紹
品牌Microtrac/拜爾產(chǎn)地類(lèi)別國產(chǎn)
應用領(lǐng)域電子,冶金,航天,電氣

HTR-01 桌式4英寸快速退火爐

  

HTR-01A快速退火爐系列采用紅外輻射加熱技術(shù)，可實(shí)現1-10片樣品同時(shí)進(jìn)行，可實(shí)現4寸晶圓片吋樣品快速升溫和降溫，同時(shí)搭配超高精度溫度控制系統，可達到的溫場(chǎng)均勻性，對材料的快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氮化(RTN)、快速熱氧化(RTO)及金屬合金化等研究和生產(chǎn)起到重要作用。

主要應用領(lǐng)域：

快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN);離子注入/接觸退火;

金屬合金;

熱氧化處理;

化合物合金(砷化家、氮化物等);多晶硅退火;

太陽(yáng)能電池片退火;高溫退火;

高溫擴散。

產(chǎn)品特點(diǎn)

● 快速加熱和降溫: 最高可控升溫速率可達50 ℃/s，特定條件下可以達到100 ℃/s。冷壁水冷設計能夠達到較大的降溫速率，特定條件下可達30 ℃/s。

● 精確控溫: 采用工業(yè)級溫控器進(jìn)行PID精確控溫，目標溫度與設定溫度曲線(xiàn)一致性高，可實(shí)現室溫至1200 ℃的溫度精確控制。

● 適應多種工藝環(huán)境: 滿(mǎn)足多種工藝氣氛下的熱處理（氮氣、氬氣等）。同時(shí)，通過(guò)選配真空泵，可以在真空條件下進(jìn)行退火，最高真空度可達10-5Pa。

● 配備觀(guān)察窗口: 通過(guò)觀(guān)察窗口，可以實(shí)時(shí)觀(guān)察熱處理過(guò)程中的樣品變化。同時(shí)，可以結合相關(guān)測試方法進(jìn)行原位測試分析。

● 超高安全系數: 采用爐壁超溫報警系統和冷卻水流量報警系統，保障儀器使用安全。

● 售后服務(wù)：，能快速反應客戶(hù)售后需求。



最大樣品尺寸

4英寸（直徑20mm）

控溫范圍

RT~1200℃

升溫速率(max)

50℃/s

高溫段降溫速率（max）

600℃/min

溫度均勻性

≦1%

控溫精度

±0.1℃

氣體流量

標配1路，可擴展至多路

放樣管徑

Ф210mm*320mm

放樣數量

          4-10個(gè)

真空度

   真空度可以達到10-5

    控制方式

支持真空、氧化、還原、惰性氣體等工藝氣氛，也可設置通過(guò)軟件控制真空及通氣時(shí)間



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